倍福文学

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第460章 极限的边界（第5页）

中午的时候，柳工来到验证室，他是收到《gpmc-o1芯片次流片失效分析报告》后来的。

此时，他手里也拿着一份：“我仔细看了一遍，写得很好。问题找得准，分析得透，建议也提得对。”

吕辰直起腰：“柳工，您看工艺这边，我们提的那些改进……”

“我正在想这个事。”

柳工拉过一把椅子坐下，“你们报告里写的，氧化层质量不稳，光刻有偏差，掺杂浓度波动都对。但怎么改，我得跟你们商量商量。”

他拿起桌上的笔，在报告的空白处画了一个简单的炉管示意图。

“氧化工艺，现在用的是高温干氧氧化，每分钟生长度大概1ooo埃。度快，但致密性差，容易有针孔。”

他用笔点着图上的几个点，“如果降低生长度，比如降到每分钟5oo埃，氧化层会更致密，针孔会少。但代价是时间翻倍，炉管的产能就降下来了。”

钱兰抬起头：“柳工，您的意思是，要改工艺参数？”

“对。”

柳工点头，“但不是简单地把度降下来。我想的是，能不能分两步走？先快生长一层，再慢生长一层。快的那层用来控制厚度，慢的那层用来提高致密性。这样既能保证产能，又能提高质量。”

吕辰眼睛亮了，这就是经验。

他们做设计，只知道“氧化层质量不稳”

，但怎么稳，是工艺的事。

而柳工这种一线老师傅，脑子里装着的，就是这些“怎么稳”

的办法。

“掺杂那边呢？”

诸葛彪问。

柳工又画了一个扩散炉的示意图：“现在用的是恒定源扩散，靠控制时间和温度来控制掺杂浓度。但这个方法的缺点是，炉子里不同位置的片子，掺杂浓度不一样。前端的比后端的浓，中间的比边缘的浓。”

他顿了顿，用笔在图上画了一个箭头：“我想试试‘两步扩散法’。先沉积，再推进。沉积的时候，在片子表面涂一层含掺杂剂的氧化物，然后低温推进，让掺杂剂慢慢扩散进去。这样浓度更均匀，控制也更精确。”

钱兰在旁边飞快地记着，这不是简单地“把波动收窄”

，而是实实在在地改进工艺，让波动本身变小。

“洁净度呢？”

她问。

柳工沉默了几秒，脸上的表情有些凝重：“这个我正在查。你们报告的坐标图，我看得很仔细。41颗短路的芯片，短路区域集中在寄存器堆。如果是过滤器失效，缺陷应该是随机分布的，不会这么集中。所以我怀疑，不是过滤器的问题。”

“那是什么？”

诸葛彪问。