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第349章 微波与微电（第2页）

一位五十多岁的研究员正在调试一台镀膜机。

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看到郑老师进来，他关掉设备，摘下手套走过来。

“老郑，带客人来了？”

“李工，这三位是北京红星所的专家，吕辰、吴国华、钱兰同志。”

郑老师介绍，“这位是李昱才老师，咱们真空实验室的元老，从上海交大迁校时就来了。”

李工与三人一一握手：“欢迎欢迎。北京来的专家，是来看我们的土设备吧？”

他的语气里带着几分自嘲，但眼神中透着自豪。

吕辰连忙说：“李工客气了，我们来的路上就听说，成电的真空技术在全国都是一流的，特别是在高频器件封装方面，有很多独到之处。”

李工的脸色缓和了些：“一流谈不上，但确实解决了一些实际问题。来，看看我们这台老家伙。”

他带众人走到那台真空镀膜机前：“这台是59年从民主德国进口的，当时是为了研制微波电子管——行波管、速调管这些，现在用来做高频晶体管的真空封装。”

他打开控制柜的门，里面是令人眼花缭乱的继电器、定时器、电压电流表：“全手动控制，抽真空分三级，前级机械泵抽到10^-2帕，开扩散泵抽到10^-4帕，最后用分子泵抽到10^-6帕。每一步都要看真空计读数，手动开关阀门，控制加热电流。”

吴国华仔细看着有些褪色的标签：“李工，抽到10^-6帕要多长时间？”

李工的语气有些无奈：“顺利的话，八个小时，但经常不顺利。密封圈老化、真空脂干涸、系统有微漏……”

“那镀膜过程呢？”

“更麻烦。”

李工指着设备另一侧一个透明的石英窗口，“镀金、镀铝、镀二氧化硅，不同的材料用不同的蒸发源。金用钨丝篮蒸发，铝用钽舟，二氧化硅用电子束轰击。蒸发速率、基片温度、旋转速度，全凭经验控制。”

吕辰翻开操作台上的厚厚日志，上面记录着每次实验的参数、现象、结果。

随便打开一页：1962年3月17日，样品编号VT-312，镀金膜。真空度5.6×10^-6托，基片温度150℃，钨丝电流85A，蒸发时间3分20秒。膜厚约800?（用多光束干涉仪测量），均匀性±15%，附着力良好（胶带测试通过）……”

记录详细得令人惊叹，连当天的大气压力和实验室温度都有记载。

“李工，你们测量膜厚用什么方法？”

吕辰问。

李工从抽屉里拿出一套光学器件：“这是自制的多光束干涉仪，原理是从英国文献上看来的，在基片上贴一小块玻璃片，镀膜后在交界处会产生干涉条纹。数条纹数，根据光的波长算膜厚，精度能达到几十埃。”

他又拿出几片不同颜色的玻璃片：“这是‘比色法’，把镀好的膜和标准色板对比，根据颜色判断膜厚范围。经验丰富的老师傅，用这个办法能估到100?以内。”

虽然精度和效率无法与国外先进水平相比，但方法论是科学的，数据是真实的。

离开真空实验室，郑老师又带他们参观了材料分析与半导体实验室、脉冲电路与数字逻辑实验室、环境可靠性测试平台。

每一个实验室，都让吕辰三人既感慨又振奋。

参观完所有实验室，已是中午时分。

郑老师带他们在学校食堂简单用餐。

饭后，四人来到行政楼的一间会议室。

下午两点，会议室里陆续坐满了人，除了昨天见过的王振华、李建国、张明远三位老师，还有微电子系的王主任，以及相关专业的十多位教授、讲师。

王主任五十多岁，头发花白，戴着黑框眼镜，有着典型的知识分子气质。

他起身与吕辰三人一一握手：“欢迎三位同志，老郑已经向我汇报了，为‘星河计划’寻找高频领域的技术支持，我们成电很感兴趣。”

众人落座后，王主任开门见山：“咱们就不客套了，直接进入正题。吕辰同志，能否先介绍一下‘星河计划’目前的进展，以及你们在高频领域遇到的具体问题？”

吕辰起身，在会议室的黑板上画了一个简图，开始介绍起来：“……目前我们已经建立了从设计、制造到测试的完整技术链，掌握了5微米工艺……”

讲完进度，吕辰开始讲芯片频率的技术难点：“但是，我们目前的芯片工作频率只能达到1MHz左右，这严重限制了应用范围。通信、雷达、电子对抗这些关键领域，需要的芯片频率至少在几十MHz甚至GHz量级，这就是我们面临的核心瓶颈，也是我们来成电的原因。”

钱兰从公文包里取出一份厚厚的文件，递给王主任。

“王主任，这是我们整理的技术需求清单，共分六个大类，三十七个子项。”