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涂胶显影采用半自动匀胶台,真空吸附硅片,转可调。
显影采用定时刻浸槽,定时精度需达到秒级。
在薄膜区,氧化扩散采用国产三管卧式扩散炉,温度控制依赖红星所工业监测实验室研的“掐丝珐琅”
数字监测与继电器逻辑控制系统,目标控温精度±3°c。
化学气相沉积使用真空所提供的石英管反应室,外围包裹自制电阻炉加热。
设备简陋,但对气流、温度均匀性要求极高。
物理气相沉积即真空镀膜,用于金属铝电极的蒸,蒸源为简单的钨丝篮。
在掺杂区,离子注入机是“宝贝疙瘩”
,由兰州51o所提供的原理样机,极其珍贵,也极不稳定,大部分时间可能处于“调试”
或“维修”
状态。
因此,主流掺杂工艺仍依赖固态源扩散,使用硼微晶玻璃片、磷钙玻璃片作为掺杂源,在扩散炉中进行。
关键监控手段是四探针测试仪,测量薄层电阻,反推掺杂浓度与均匀性。
刻蚀区以湿法刻蚀为主。
计划设立一排耐酸碱通风橱,内置石英或聚四氟乙烯刻蚀槽,用恒温水浴锅控制刻蚀液温度在±o.5°c范围内。
同时,探索干法刻蚀,利用一台由无线电研究所协助改造的简易等离子去胶机,尝试用于关键尺寸图形或新材料的研究。
在金属化与互联区,真空镀膜机蒸镀铝电极后,使用一台小型合金炉,在特定气氛下进行铝-硅接触的合金化处理,降低接触电阻。
引线键合是真正的“手艺活”
。
自动键合机原理样机尚未成功,只能依赖手工。
在双筒立体显微镜下,操作员用特制的热压劈刀或金丝球焊笔,进行精密的热压键合或球焊。
这一环节,对操作员的手稳度、眼力、技巧和心理素质,是终极考验。
最后是检测与封装区。
检测主要依靠一台带有微分干涉相衬附件的进口光学显微镜,这是观察图形、检查缺陷的“眼睛”
。
电学测试方面,计划用高精度千分尺改装成x-y移动平台,自制一个简易探针台,手动操作钨钢探针测试芯片的电参数。
扫描电子显微镜原型机还在北京电子管厂攻关,因此,关键的微观形貌观察和失效分析暂时是空白,只能依赖光学推断和电学反推。
封装采用陶瓷双列直插封装,封装外壳由红星所工业陶瓷中心试制生产。
最后的封盖工序,在一个小型充氮手套箱内进行,防止内部污染。
“各位,”
宋颜神情严肃,“我们有建设模拟线的经验,但中试线的难度,是几何级数的提升。它外表会是各种老旧设备拼凑的杂牌军,但内核必须是一所纪律严明、数据驱动的现代军校。它的成功,不在于做出多少片完美芯片,而在于,用最低的成本、最短的时间,把未来工业化生产中能犯的、不能犯的错误,都尽可能地犯一遍,并且,把每一次错误的教训,都变成铁打的规则和活的人才。”
会议进入攻坚部署阶段。
刘星海教授根据前期梳理和专家判断,明确指出了建设中试线必须跨越的七道天堑,他称之为“七只挡路虎”
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