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第416章 把辰芯微做成世界第一的芯片制造公司（第2页）
如果采用多重曝光、鳍式场效应晶体管FinFet技术，突破到7nn，甚至5nm估计也不成问题。
只是这种晶体的缺点也较多，特别是高温形变问题是难点中的难点。
光刻，是光在晶圆上进行雕刻，
光不断地冲击，会让晶圆热。
在晶圆上面再加一个晶体，比增加一个透镜的难度要大得多。
最后选定的，是镓镁晶体。
这种晶体，在特殊的技术处理之后，能够适应较高的温度，高温形变上能够有效改善。
当然，这种也只是改善，并不能完全解决。
“江总，我们的专家们厉害，把这个系统破解了，增加了一道非接触式光刻系统。”
孔连华解释道，“就是咱们这么一搞，出问题后要阿斯麦的工程师来修就不可能的事了。”
不仅不能让人来修，还不能让人知道。
江奕辰并没有直接回复，而是看着一片测试晶圆的情况。
“检测结果，28nm工艺。”
就这么一个测试，就达到了28nm工艺的极限。
显而易见，镓镁晶体给193nm的光刻机带来了巨大的质变。
“单片晶圆光刻后，晶体的温度达到了8o度。”
“再高一些，这个误差就无法软件纠正了。”
孔连华郁闷地说道。
江奕辰摆手，“增设一个降温系统即可，准备一个类似双工件台的设备，在每次光刻一个晶圆后，镓镁晶体同步撤出散热，换新的晶体上。”
张成在旁边看着抚掌赞叹，“对啊，既然改都改了，咱们改得更合适一些就行了。”
孔连华点头应是，“这倒是，看起来我们可以给这个技术取个名字了。”
“就叫改良型非接触式193nm光刻机。”
江奕辰直接定下了名字。
他可不想随便把这个技术透露出去。
哪怕是使用的是什么样的晶体。
至于制备技术，那就更是机密中的机密。
江奕辰与这些人全部都签订了最严格的保密协议。
以确保技术不会外泄。
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