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他在图上画了两个时钟域,中间加了一个同步器。
“仿真模型中的同步器是理想的,假设亚稳态传播时间为零。实际同步器中,亚稳态可能传播几个纳秒,导致数据错误。”
他指着最后一行:“kL-cu有一颗芯片,在执行某条极特殊的指令序列时死机。我们经过极限测试,现概率约在万分之一,跑了几万条指令才触一次。仿真时间有限,不可能跑完所有输入组合。”
他放下粉笔,看着台下。
“这些问题,都是分布式系统无能为力的。系统能验证设计是否正确,但验证不了在真实物理世界中的行为。”
陈光远站起来,走到黑板前。
“除了以上内容,我再补充一些工艺波动与制造偏差之间的问题。”
他在黑板上画了一个晶圆,标了几个区域。
“这一类问题与设计无关,纯属制造环节的物理随机性。分布式系统能做的,几乎为零。”
他指着晶圆示意图。
“先是关键尺寸偏差。光刻后晶体管的栅长偏短或偏长,导致度或漏电异常。晶圆边缘的偏差比中心大了一倍。”
“其次是套刻偏差。两层掩模的对准偏移,导致晶体管特性变化。版图设计时预留了套刻余量,但实际偏差过了余量。”
“再次是接触孔通孔失效。接触孔未完全打开或填充不良,局部断路或高阻。刻蚀和沉积工艺的均匀性,系统无法预测。”
“第四是掺杂浓度波动。离子注入的剂量不均匀,导致阈值电压漂移。扩散炉的温度分布和注入机的束流稳定性,系统不知道。”
“最后是氧化层厚度偏差。栅氧化层厚度不均匀,影响晶体管性能。氧化炉的气氛和温度历史,系统不知道。”
他放下粉笔,转过身。
“这几样是比较明显的,其他的,还有封装与测试引入的问题。”
他掰着手指头数。
“键合线短路、断路,封装后芯片不工作。键合线电感导致过冲,输出信号有大的振铃,可能误触后级。热膨胀系数失配,温度循环后焊点开裂。测试向量不完整,自检通过但实际应用中出错。”
他看着台下:“这些问题,系统都不涉及。”
陈光远讲完后,会议室里沉默了好一会儿。
宋颜像是在消化刚才听到的所有问题,过了好一会儿才开口说话。
“各位,都听清楚了?昆仑1第一版流片,全面溃败。12颗芯片,没有一颗全好。这是事实,昆仑1是我亲自带队设计的,我也深受打击。”
他顿了顿,目光从每一张脸上扫过。
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