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kL-mc良率3L-Ic良率25.4%
kL-bus良率22.5%
kL-cLk良率29.3%
kL-dIag良率28.9%
kL-pR良率24.6%
这五颗也还能接受,良率上了2o%,第一次流片,都能理解,接下来三颗的情况令人心碎。
kL-cu良率7.9%,仅有3颗测试通过。
kL-cu-R良率5.6%,仅有2颗测试通过。
kL-Vu更是仅有1颗独苗,良率2.9%。
吴国华放下粉笔,转过身,看着台下。
会议室里安静得能听见墙上挂钟的滴答声。
“12颗芯片,没有一颗良率过百分之八十。控制类、运算类的大芯片,良率几乎可以忽略不计。kL-Vu,三万多门电路,只通过了1颗。”
他年轻的声音竟然显得有点很沉。
宋颜靠在椅背上,没说话。
陈光远翻开笔记本,看了几眼,抬起头:“戚工,表征实验室的切片分析做了没有?”
戚工站起来,走到黑板前,从文件夹里抽出一张照片,用磁铁吸在黑板上。
那是一张扫描电镜拍的芯片剖面照片,放大了几千倍,能看见金属线的截面、介质层的厚度、接触孔的形貌。
“这是kL-Vu的切片。”
戚工指着照片上的几个区域,“我们做了12颗失效芯片的切片分析,问题集中在几个方面。”
他在黑板上写了几行字。
“第一,金属线断线。4颗芯片现了开路,位置在第二层金属的拐角处。电镜照片显示,金属线在拐角处明显变细,局部几乎断开。”
“第二,接触孔开路。3颗芯片的接触孔没有完全打开,钨塞填充不良,接触电阻比正常值大了两个数量级。”
“第三,栅氧击穿。两颗芯片的栅氧化层有针孔缺陷,漏电严重。”
“第四,硅片裂纹。一颗芯片在划片过程中产生了微裂纹,延伸到有源区。”
“第五,封装问题。两颗芯片的键合线从焊盘上脱落。”
他把粉笔放下,转过身。
“这些都是制造和封装环节的问题。设计本身有没有问题,要结合电测结果分析。”
陈光远点了点头,看向刘高工。
刘高工站起来,走到黑板前,拿起粉笔。
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