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第282章 选择五微米（第2页）

照片是在金相显微镜下拍摄的，黑白影像，分辨率不算高，但足以看清细节。

那是一组平行线条测试图形，标尺显示线条宽度约五微米。

线条基本平直，但边缘有细微的锯齿状起伏，像是手绘时笔尖的抖动。

在线条交汇处，有明显的圆角，而不是理想的直角。

“陈副所长，两微米呢？”

谢凯忍不住问。

陈光远苦笑：“实验室环境下，偶尔能做到。但成品率不到百分之十，而且批次之间波动极大。可能今天这炉参数调好了，出来几片不错的；明天同样的参数，一塌糊涂。”

他顿了顿，加重语气：“关键在于‘稳定’和‘可重复’。实验室里灵光一现的成功，对工业化生产没有意义。我们要的是今天能造出来，明天还能造出来，下个月、明年还能造出来。”

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哈工大的周工点头：“陈副所长说到点子上了。我们搞机械的也是这个理儿。实验室里调出一台精度惊人的样机不难，难的是批量生产时，每一台都能达到那个精度。”

上海机床厂的刘工、武水院的赵工等人也表示认同。

陈光远等大家说完，回到图纸上：“所以回到宋教授的问题。以我们目前五微米的稳定工艺水平，这个单片机方案，两千多个晶体管，按照设计图中的晶体管尺寸和间距推算，需要至少两微米的线宽才能容纳得下。五微米的话，芯片面积会大到不现实，功耗、性能都会出问题。”

他指着第二个方案：“而这个模块化方案，最大的一块芯片是算术逻辑单元，六百多个晶体管。我们计算过，如果用五微米工艺，芯片面积大约四毫米见方，虽然比理想情况大，但在可接受范围内。其他几块芯片面积更小。”

他抬起头：“我的意见是：暂时放下对终极精度的追求，先专注于可用性和一致性。我们接受五微米线宽，甚至在某些非关键区域，可以放宽到十微米。重点保证这个精度能稳定、可重复地实现。用这个工艺，先把方案二的四块芯片造出来。”

会议室里沉默了片刻。

宋颜教授缓缓点头：“我同意陈副所长的判断。临行前，刘星海教授也表示，科研不能只盯着最理想的目标，更要看清脚下的路。要先解决‘有无’问题，再解决‘好坏’问题。”

他转向吕辰：“小吕是‘红星一号’的总设计，并且负责了芯片的定义和架构，你从应用角度，模块化方案能实现‘红星一号’的基本功能。”

吕辰起身行礼，走到会议室前沿的小黑板前，拿起粉笔。

“陈副所长，各位同志。从系统功能角度，模块化方案完全能够实现‘红星一号’的所有设计要求。”

他在黑板上画了一个简单的框图，四块芯片用方框表示，之间用箭头连接。

然后他从信号流开始，详细讲解了“红星一号”

总体设计思路和各芯片单元的功能。

讲解完毕，吕辰总结道：“所以从功能完整性上说，模块化方案没有问题。唯一的代价是：因为分成了四块芯片，它们之间需要通过外部引线连接，这会引入额外的寄生电容和电阻，影响信号传输速度。同时，芯片面积总和比单片方案要大，功耗也会高一些。”

他顿了顿，语气坚定：“但这些代价，在现阶段是可以接受的。我们需要的是尽快验证集成电路设计的正确性，验证从图纸到硅片的整个制造流程是否可行。模块化方案降低了制造门槛，让我们有机会在明年四月前拿出实实在在的成果。”

陈光远连连点头：“说得好！先解决主要矛盾。我们现在的主要矛盾是什么？是集成电路在中国还是‘零’。我们要把这个‘零’突破，证明这条路走得通。至于性能优化、集成度提升，那是下一步的事。”

他看向哈工大的周工：“周工，你们机械部分，五微米精度的工作台，有把握吗？”

周工打开桌上的笔记本，翻到其中一页，上面密密麻麻记录着日期、温度、湿度、电压、工作台移动距离、实际定位误差、重复定位误差等数据。“陈副所长，这是我们团队过去半年积累的工作台测试数据。目前我们自研的蜗轮蜗杆传动工作台，在恒定温度、稳定供电的条件下，重复定位精度能做到正负三微米。”

他指着数据中的几处异常值：“但问题在于稳定性。你看这里，下午两点车间大功率设备启动时，电压有波动，误差就跳到八微米。这里，室温升高两度，热胀冷缩，误差又大了。”

周工合上笔记本，神情严肃：“所以我的想法和陈副所长一样：不追求极限精度，先保证基本可用。”

他加重语气：“而且这个精度要能持续，不能干两个小时就磨损超标。我们要做寿命测试，记录运行一千次、一万次后的精度衰减数据。根据数据改进设计，而不是凭感觉。”

上海机床厂的刘工也表示全力支持，当场就表示立即提供十套工作台传动部件，用于制造原型光刻机。

武水院的赵工分享了他们设计的‘三级稳压滤波’方案：第一级，用大功率稳压器将输入电压稳定在220伏±5%；第二级，给每台光刻机配独立的中功率稳压器，将波动压缩到±2%；第三级，在光刻机控制柜内部，再加一个小型精密稳压模块和LC滤波电路，最终输出波动可以做到±0.5%。”

这个方案比不上理想的纯净电源，但胜在实施快、成本低。

这些肯定的回答，让会议室里的气氛明显活跃起来。

当目标从“追求完美”

调整为“先做出可用的”

，那些看似无解的问题，突然都有了现实的解决方案。

陈光远当即拍板，定下了先在五微米工艺站稳脚跟，再攻关两微米，进军亚微米的战略决定。

他对宋颜教授道：“宋教授，我们正式决定，‘星河计划’光刻组，第一阶段目标定为：采用五微米工艺，实现‘红星一号’模块化方案四块芯片的制造和系统集成。时间节点：明年四月百工联席会议前，拿出可工作的样品。”