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第246章 沧海遗珠（第2页）
这不就是光刻技术的雏形吗？
是未来集成电路制造的核心环节之一！
他强压下心中的激动，继续往下看，发现这项技术在讨论中被归类为“专用精密仪器制造技术”
，优先级并不高，被认为与当前主流的钢铁、机械等重工业领域关联度不大。
他又陆续看到了几条被“淹没”
在众多课题中的记录。
一个是来自中国科学院半导体研究所的‘高纯度单晶硅区域熔炼技术’。
该技术通过先进的区域熔炼方法，能够提纯硅材料，获得纯度高达6N以上的单晶硅。
其申报目的，是用于当时更受关注的半导体二极管和晶体管的研发。
在讨论中，它被记为“半导体材料纯化工艺”
，看起来只是电子元器件领域的一个辅助性技术。
最主要的是，在当前锗晶体管仍占主导、硅材料应用前景不明且提纯能耗巨大的背景下，这项技术被认为“不经济”
，未能得到足够重视。
另一个是来自工业学院-真空电子技术研究所的‘真空薄膜化学气相沉积技术’。
该技术旨在真空环境下，通过精确控制的化学反应，在基片表面沉积一层氮化硅薄膜，目的是为了增强电子管的耐用性和绝缘性能。
在当前情况下，随着晶体管技术的兴起，电子管渐显颓势，这项技术也被视为“过时”
，且其薄膜沉积的精度要求远超当时一般工业需求，因此被看作是“实验室里的玩具”
。
但在吕辰看来，这分明就是芯片制造中不可或缺的化学气相沉积工艺的基础，是未来沉积绝缘层和金属布线层的关键技术！
最后一个甚至是清华大学电子工程系自家的成果，‘超精密电子束扫描定位技术’。
该技术利用电子束在真空中的微米级扫描与定位，主要用于电子显微镜的图像分析和材料表面探测，被列为“电子光学仪器精度提升项目”
。
其研究目的非常纯粹，就是为了服务科研成像。
然而，吕辰知道，这正是电子束光刻的前身，不仅可以用于制造高精度的光刻掩模版，甚至能直接进行芯片电路的“写入”
，是实现极高精度电路图案的又一利器。
只是因其设备昂贵、操作复杂，在六十年代初的中国，仅能用于少数顶尖高校的基础研究，自然被批评为“脱离生产实际”
。
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吕辰拂过记录这些技术的纸张，内心波澜起伏。
这四项技术，几乎涵盖了集成电路制造最基础的材料提纯、图形生成、薄膜沉积几个关键环节。
它们此刻是如此稚嫩、如此孤立，分散在不同单位，服务于各自看似并不紧迫的目标，甚至因为“超前”
而饱受质疑，经费和支持力度都处于较低水平。
但在吕辰的脑海中，它们已经可以串联起来，勾勒出一幅未来芯片产业的宏伟蓝图。
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