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第262章 接连被震撼到（第4页）

最终还是罗长辉出声化解这份尴尬氛围，重新把话题拉到正轨上。

“好了。”

“徐教授能展现出这种强大天赋，我们大家应该感到高兴才是。”

“正是这样才有更多希望解决光刻机问题。”

话音落下看到大家深以为意，他才扭头重新把目光放到徐昀身上抛出一个问题。

“徐教授。”

“不知道你打算先解决哪项问题？”

说完不单单是罗长辉，在场其他人也都第一时间把目光集中到了徐昀身上静静等待答案。

花费两天时间看完所里的光刻机项目资料后，徐昀知道国产极紫外光刻机主要面临的问题，主要分为光源和掩膜以及投影光学系统等。

极紫外光刻机光源出的极紫外光线，极其容易被物质吸收。

光束经过多次反射后，只有不到2%的光线能使用。

能量转化率极低。

因此需要强大光源，来保证射线光源足够强。

另外极紫外光波长为13.5nm，由于容易被镜头玻璃等材料吸收，还会被空气和气体吸引影响折射率变化。

腔体需要采用真空系统。

投影光学系统则必须使用反射镜代替透镜，这使得反射镜的精度要求很高，同时制造成本昂贵。

掩膜方面因为极紫外光线的特殊性，普通掩膜版非常容易破坏，这就需要研出特殊的掩膜版。

可以说这几项问题每个单独拿出来，都需要研究所进行大量长时间的研究。

并且还不见得一定会有成果。

足可见制造整台极紫外高端光刻机的难度。

也怪不得海外半导体领域有恃无恐，并不担心他们能够实现高端芯片制造产业链国产化。

幸好高端光刻胶的问题已经解决，否则便相当于是又增加了难度。

徐昀弄清楚这些的同时自然也有了方向，这时面对罗长辉的询问并未隐瞒什么，当即便大方讲出了自己接下来的规划。

“我打算先解决光源问题。”

在场的研究员很清楚这些问题都要解决，先主攻哪个并无多大区别。

自然不会对徐昀的决定提出质疑。

相反听到这个答案后纷纷点头表示附和。

“光源确实是非常重要的问题，我们现在所能制造出的极紫外光源，功率方面根本达不到要求。”

“我没有意见。”

“我也支持徐教授的决定。”

徐昀对大家的表现非常满意，但若认为他只能做到这种程度可就大错特错了。

没等大家回过神来，他便又丢出一颗重磅炸弹。

“之后一段时间我会拿出光源的设计方案，另外后续我也会完成光学系统和掩膜的方案，到时候就要拜托大家合力将光刻机完成。”

如果说刚才大家对徐昀短时间看完全部资料只是意外和吃惊。

那么此刻听完这句话后，表情霎时间便僵硬在了脸上完全处于懵圈状态。

瞳孔骤缩仿佛生了地震。

不敢相信自己究竟听到了什么。