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第三百一十四章 弯道超车（第2页）

杰夫·怀特说，他是尼康新上任的ceo，不知道什么时候坐到了佐藤和小松正志的旁边。

小松正志和佐藤博人都连忙和杰夫·怀特打招呼。

简单的寒暄后，杰夫·怀特说：“虽然不想承认，但是新芯在光刻机领域的研度远我们的预计。

其中新芯自身从尼康、佳能挖走大量研人员是原因之一，他们获得了蔡司的全力配合是更重要的原因。

对于一套新的光学通路来说，没有蔡司的配合，新芯无论如何也没有办法在短短两年时间做到重构整个物镜光路。”

杰夫·怀特很无奈，当年尼康做出把技术卖给新芯的时候他还不是尼康的ceo，后来复盘的时候他想过，如果当时他是新芯的ceo是一定不会把技术卖给新芯的。

远在东京的尼康不会知道neman有多神奇，只有身在硅谷的杰夫·怀特对这一点最有感触，自从neman迅崛起后，他成为了杰夫·怀特日常生活中听到最多的名人。

三人的闲聊在林本坚上台后戛然而止，大家都想听听新芯的技术路线。

“......我们在晶圆光刻胶上方加了一层，利用这层介质把光源的波长缩短到了15onm以内。因此在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了na，使得193nm波长的能等效出15onm以内的波长！”

“同时因为业内大量的芯片制造厂商们，他们会在一个大的硅片上生产大量不同的芯片，浸润式光刻法可以避免高掩模成本......”

林本坚在台上通过一些图片和实验结果来展示浸润式光刻机的优越性，讲的非常枯燥乏味，大量的技术内容掺杂着寥寥数笔浸润式光刻机的技术优势。

即便如此，台下来自半导体不同环节的企业代表们没有一个走神，大家都在全神贯注的听着新芯的技术路线。

“我就说浸润式可行，我们不应该在干式光刻机上再投入资金了。

浸润式光刻机才是未来。

我们继续沿着尼康和佳能的技术优势路线投入，那么我们永远都不会有过佳能和尼康的机会。

而新芯有这样的自信，所以他们短短数年时间，就顺利实现了越。”

“现在的问题是新芯已经率先在浸润式光刻机上实现了突破，一是他们实现了突破，一步慢，步步慢。

我们拿出类似的浸没式光刻机最快也要一年时间。

一旦新芯把关键技术注册了专利，一年时间都不够，三到五年都是完全有可能的。

推出新设备之后，需要用1到3年的时间由厂商通力配合适应，新芯比你早量产就比你多了时间去改善问题和提高良率，这会让我们更加难以越，一步落后，步步落后。

现在再去走浸润式，我怎么感觉死的更快呢？”

asmL的技术专家们很懊悔，曾经他们有机会走浸润式光刻机路线，但是这个机会被他们内部的决策给亲自否了，业内没有一家走这个技术路线，凭什么他们能走通？

新芯和蔡司配合研浸润式光刻机的消息传到asmL的耳中时，他们早就确定技术研方向了。

“没有办法，我们只能把这几年的市场拱手相让，让给新芯，等到euV的时候再翻盘。

这是唯一的办法了。”

“唉，我们真的还有钱烧这么多年吗？

换句话说，如果在euV光刻机上，新芯又比我们先完成研怎么办？”

“不可能，绝对不可能，我们连原型机都已经研出来了，新芯没有参与euVLLc的前期论证，华国国家层面压根没有投入到这一块的研中去过。

neman再厉害他也不可能改变物理世界的规则，如果是互联网世界，我相信neman也许能做到。”