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第二百八十六章 浸润式光刻机技术路线的独苗（第2页）

有点讲远了，刚刚说本坚在IBm不得志，是因为他在IBm的时候做的是深紫外光，而那时候IBm的光学部门主要研究方向是x光，这也导致他其实并没有那么得志。

不然他也不会在五十岁的时候申请IBm的内部退休创业。

因此本坚一直认为芯片制程想要突破，光源是关键，现在的光源是深紫外光，而要想从深紫外光到极紫外光，浸润法是关键。”

不得不说林本坚的技术嗅觉极其敏锐，极紫外光是芯片制程进入到1onm下的关键技术，而如果继续采取干式光刻机，极紫外光导致的问题无法解决。

当新芯从周新到胡正明再到林本坚，这一条线的人都达成了共识要走浸润式光刻机路线时，新芯在光刻机领域的主要对手们都在朝157nm干式光刻机领域起冲锋。

当前9onm制程靠的是193nm波长的干式光刻机，这一波长的光源极限就是65nm，几乎不可能再往下了。

业内在实验室中已经对此进行过了验证，要想继续往下，那就得换光源，产业界和学术界想了各种各样的办法，这些办法都指向了一个方向换光源，换波长更短的光源。

可以很明确的说如果没有林本坚，asmL一定会继续往干式光刻机方向展，因为他们在2ooo年的时候收购了sVg，一家专注于157nm波长光源的公司，是在这一技术路线上最接近商业化量产的公司。

asmL在157nm干式光刻机上投入了大量费用，如果不是林本坚先说服了台积电的总裁蒋尚义，然后由林本坚出席在布鲁塞尔举办的157nm波长的光刻机技术研讨会上说服了大多数专家。

后来依靠台积电，林本坚完成了浸润式光刻机的可行性研究，asmL压根不会走这一技术路线。

历史的拐点，导致当前全球新芯科技是唯一在浸润式光刻机上投入资源的厂商。

周新根据自己了解到的行业情况，颇有种风云变化的感觉，他带来的影响让asmL进入到了一个前景有限的技术路线里去了。

靠着之前的技术积累，asmL、尼康、佳能靠着干式光刻机和新的光源能在45nm都赶上，但是到了45nm之后，干式光刻机的技术路线一定会出问题，问题就是无论如何优化工艺，良品率都迟迟上不去。

当然不排除，他们跟着新芯科技去走浸润式光刻机的路线，但是这也意味着新芯积累的专利，构建的专利墙可以向他们收高昂的专利费用。

......

“马克，你好，脸聊做的很不错。”

周新回到旧金山之后和扎克伯格见了一面。

脸聊短短两个月时间，在全美的用户数已经成功突破一百万了，创造了手机应用的历史，成为最快达到百万用户成就的非原厂应用。

以至于扎克伯格成为了硅谷的新宠，大量媒体版面把视线放到了这个年轻人身上。

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加上脸聊故意在社区引导一种氛围，那就是你不是会员就不够酷，女生们对会员和非会员的态度截然不同。加上能用得起mphone的基本上都具备一定的经济基础，综合因素下来脸聊的付费率不是一般的高。

百万级用户量、付费率高、增长度快，种种因素叠加起来，让脸聊成为2oo3年最火的独角兽企业。

扎克伯格咧嘴笑的很开心：“neman，你是我的偶像，我还在上高中的时候，你做的Quora伴我度过了很有趣的一段时光。”

周新是他的偶像这点不是奉承，而是事实，但是想越周新，获得更大的成就，取代周新互联网之王的称号也是事实，这并不矛盾。