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第12章 光刻机问题（第1页）

坑是不可能坑的，因为张尧自己也用了。反正爱怎么就怎么着吧，就算出点岔子，秃也是三个人一起秃。

不过张尧喊姜复回来自然不可能单纯为了这件事。

张尧看着姜复问道:“5nm光刻机的进度，你那边怎么样了？”

姜复摇了摇头道:“有点问题，有些环节想要绕过其他国家的专利有点难。”

王浩好奇道:“真有这么难吗？连你出马都有问题？”

“不是一般的难！”

说起光刻机华夏人都不陌生，大多数人了解到这种机器还是因为前几年的华威断供事件。

光刻机解释起来不复杂，它主要用于将芯片设计图案转移到硅晶圆上。

工作原理类似于底片曝光洗印机，将掩膜上的图案通过光刻过程转移到硅晶圆上，形成芯片。

这听上去并不是很难，你甚至可以说它是一件高级作图机器。

但如果把它换成纳米级别的呢？

这个对精度的要求是不是就恐怖了！

光刻机包含大量的机械部件和电子元件，需确保每一个部件的稳定性和精确度。组装过程中，机器内部温度的控制需达到千分之五度的精度，这就要求有高效的冷却方法和精准的测温传感器。

以SMEE的光刻机为例，其包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，组装过程对精度和稳定性要求极高。

光刻机对精密性的要求极高，运动控制精度和位置测量精度需达到纳米级别。

例如，光刻机中的两个工件台，一个载底片，一个载胶片，需始终同步运动，且误差控制在2纳米以下。

越高级的光刻机在这一步要求越高，这要求它具备极高的运动控制精度和稳定性，同时要控制温湿度和空气压力，以保证对焦的准确性。

极紫外光刻机需要极高的能量光源，而EUV光刻机的能源转换效率只有0.02%左右。

EUV光刻机使用的光源和透镜都必须能够承受高能量的照射，且光刻机中的光学镜片需要特殊的材料来制造，以实现高精度的成像。

另外还有光刻胶和掩模技术，热管理，光学镜片等等难题。

光刻机的组成和技术难点涵盖了机械、电子、光学，材料等多个领域，对技术的要求极高。

它几乎是整个人类文明发展以来所有高精尖技术的结合体，是半导体工业皇冠上最璀璨的明珠。

它不是一个国家制备出来的，而是一群国家的高科技汇聚在一起制成的。

包括了荷兰精密工程和光学技术，米国的软件、算法和某些高端部件，小日子国的半导体制造，棒子国的技术优化等等。

华夏进入这个领域的时间已经比较晚了，但就算这样，华夏依然是世界上能独立制造光刻机的国家之一，而且在中低端市场份额已经超过一半。

只不过在高端市场上这些国家防的很死，连卖都不卖给华夏，更别提技术授权了！

张尧之前有想过用锂负极电池专利来交换这些东西，但想了想还是放弃了。

不值得！

最关键的算法和零部件国内目前搞不定，就算勉强换了过来大概也是个空壳。