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第427章 量产测试 再卖（第1页）

第一次试产，良率就能达到94.3%，等以后根据情况多次调整设备，良率还可以再提升几个百分点。

沈院士猛地一拍大腿，声音里满是激动：“94.3%！这良率在国外巨头的生产线上，也是出类拔萃的存在，你们直接一步到位，这不仅是技术突破，更是给龙国半导体产业挣足了底气！”

楚千澜望着屏幕上平稳的良率曲线，指尖轻叩观察窗，眸色沉静却难掩锋芒。

“试产达标只是起点。让技术团队趁热打铁，接下来一周进行连续量产测试，模拟24小时不间断运转，重点监测设备损耗、耗材消耗和良率波动，务必在正式量产前把所有潜在问题都暴露出来。”

王世杰重重点头，笔尖在笔记本上飞记录：“明白！我这就安排三班倒测试，每两小时记录一次核心参数，同步分析光源衰减、镜头损耗和晶圆传送精度变化，形成完整的量产可行性报告。”

张北光补充道：“我们还准备了三种不同批次的光刻胶和硅晶圆，会在测试中轮换使用，验证设备对不同耗材的适配性，确保量产时不会因原材料批次差异影响良率。”

楚千澜微微颔，目光扫过车间里忙碌的技术团队，每个人脸上都带着疲惫却兴奋的神色。

从拆解第一台25o纳米光刻机到自主研45纳米放大版产线，两年多的日夜攻关，无数次的参数调整和故障排查，终于换来了此刻的突破。

楚千澜抬手看了看时间，语气带着不容置疑的决断：“连续量产测试期间，让后勤部门全力保障，技术团队轮班休息但必须随时待命。

另外，通知星源探索，优先调配28纳米存储芯片的设计图纸，等45纳米芯片量产稳定后，第一时间进行流片试产，验证多重曝光技术在45纳米产线上的应用。”

张北光眼中闪过一丝炽热，连忙应声：“明白！28纳米存储芯片的设计图纸早已同步给技术团队，我们已提前完成光刻参数适配推演。

按照公司计划，只要45纳米产线稳定运转七天，就可以启动多重曝光技术，测试生产28纳米芯片。”

楚千澜目光落在屏幕上“94.3%良率”

的醒目数据上，语气带着几分审慎：“多重曝光技术的测试可以按计划推进，但必须建立在45纳米产线完全稳定的基础上。

确认产线没有问题后，就将45纳米芯片的生产订单转移到这边。那条65纳米的光刻机停用，准备找个买家吧！”

虽说使用多重曝光技术，可以凭借65纳米光刻机生产出45纳米芯片，但不管是良率还是效率，都比不上45纳米产线。

王世杰握着数据平板的手指微微收紧，眼中闪过一丝不舍：“楚总，那条台65纳米光刻机得来不容易，而且在国际上也还算是先进，就这么出售会不会太可惜？”

楚千澜看向正在运转的光刻产线，语气平静却带着长远考量：“设备的价值在于创造效益，而非陈列纪念。45纳米产线稳定后，65纳米光刻机对我们来说就是落后，闲置只会造成资源浪费。”