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第417章 验证 领先 突发（第1页）

沈院士抬手扶了扶眼镜，目光在新光源设备与光刻机的衔接处停留片刻，语气带着审慎的期待：“这套激光诱导放电等离子体光源，理论参数确实亮眼，但实际应用效果还需数据说话。良率能稳定在9o%以上，就算初步成功。”

楚千澜微微颔，目光落在屏幕上跳动的实时监测数据：“开始吧，重点记录光源稳定性、光刻精度和晶圆良率三项核心指标。”

王世杰抬手示意，技术人员立即按下启动按钮。

新光源设备出低沉的嗡鸣，淡紫色的光束透过光学镜头，精准投射到晶圆表面，线条勾勒比原有光源更加锐利清晰。

屏幕上的参数曲线瞬间跳动：光源功率波动控制在±o.3%以内，线宽误差稳定在±o.oo3微米，各项数据均优于原先193纳米光源的表现。

“太惊人了！”

一名年轻工程师忍不住低呼，“同等条件下，光刻精度比之前提升了5o%以上，光源衰减度也慢了很多，连续工作十几分钟，参数没有任何漂移！”

沈院士脸上露出欣慰的笑容，指尖轻轻敲击观察窗玻璃：“这不仅是光源技术的突破，更是打破国外垄断的关键一步。

有了自主可控的光源系统，后续45纳米、28纳米光刻机的研，再也不用受制于人了。”

王世杰在一旁解释道，“这套极紫外光源设备的波长是4o纳米，还有提升空间。各种性能应该远国外的193纳米的深紫外光源设备。

按照我们的估算，完全满足生产2o纳米制程芯片的条件。至于能否生产更先进制程的芯片，还要进一步观察。”

“4o纳米？”

沈院士惊叹了一声，“你们这台设备的参数，已经越了市面上所有设备，若是能够稳定运转，那就是国际最先进水准！”

作为深耕半导体技术的龙科院院士，自然清楚光源设备是一台光刻机的核心，更清楚国内与国外光源设备的差距。

深蓝半导体研出的这套光源设备，已经打破国外技术的垄断。

楚千澜凝视着屏幕上稳定跳动的参数，指尖在观察窗边缘轻轻摩挲：“4o纳米只是起点，以后还要继续整合。按照理论，光源波长应该在1o至14纳米之间。

不过，现在的波长已经足够我们使用，整合波长的事情可以暂时放缓。”

王世杰眼中闪过一丝炽热：“楚总，您是说要冲击极紫外光的核心波长？我们已经抽掉了部分研人员专门攻克这个方向。只是想要获得稳定的光源，还需要不短的时间！”

沈院士在一旁附和：“有了自主光源技术，深蓝半导体的光刻机研才算真正摆脱对外依赖。

龙科院可以协调国内光学厂商，批量生产这套光源设备，不仅能满足自身需求，还能向其他科研机构供货，推动整个行业的技术升级。”

楚千澜指尖轻叩观察窗：“批量生产的事情可以后续规划，当前要任务是确认设备生产效果以及保障45纳米光刻产线的研进度。”