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第267章 流片成功 文章（第1页）

次日清晨六点，楚千澜带着周明远、钟长风驱车前往深蓝半导体。

几人刚走进车间，就看到王世杰穿着洁净服站在光刻区外等候，脸上带着熬夜后的疲惫，却难掩兴奋。

见到楚千澜一行人，王世杰立刻迎上来，手里还攥着一份流片准备报告。

“楚总！所有设备都调试到最佳状态了！掩模版已经完成制作，凌晨用测试硅片跑了三轮模拟流片，光刻胶涂覆均匀度稳定在98.6%，离子注入机的束流误差控制在1.o%以内，星象指令集动态模块的线宽误差更是压到了±o.oo9微米，完全满足18onm制程要求！”

楚千澜接过报告，目光快扫过关键参数，“准备得很充分，没白费你们熬夜的功夫。流片流程按计划推进，重点盯紧光刻和蚀刻环节，有任何异常第一时间反馈。”

王世杰重重点头，侧身带着几人走向洁净室，“张北光团队已经在光刻区待命，光学系统的激光功率、曝光时间都按星途eda导出的参数校准完毕，就等您一声令下启动。”

穿过消杀区域，几人走进光刻区。巨大的光刻机已预热完毕，只等程序启动。

王世杰将提前制作好的掩模版安置好，随后看向了楚千澜。

“按流程启动。”

楚千澜点头示意。

王世杰按下启动按钮，机械臂精准抓起晶圆，缓缓送入光刻腔室。屏幕上，电路图案在晶圆表面逐步显影。

“楚总，您看这里！”

周明远忽然指着屏幕角落的放大图，语气带着抑制不住的兴奋，“星途eda导出的光刻参数与实际显影效果完全吻合，动态模块的布线拐角处没有出现任何毛刺！”

楚千澜俯身查看，屏幕上的电路图案清晰锐利，电源模块与运算单元的连接线路平滑流畅，没有一处因光刻偏差导致的信号交叉。

他微微颔：“星途eda对星象指令集的适配效果出预期，这为后续更复杂的芯片研打下了基础。”

钟长风在一旁补充道：“我们之前做过模拟测试，用星途eda设计的芯片，在时序分析环节的效率比国外工具快23%，现在看来，实际流片的精度也毫不逊色。”

“楚总，第一片晶圆光刻完成！”

王世杰的声音带着一丝激动，通过对讲机传达指令，“立即转移至蚀刻区，按预设参数启动蚀刻工序！”

蚀刻区的工程师早已待命，晶圆刚送达，蚀刻机便精准喷出蚀刻气体。

屏幕上，蚀刻深度以纳米级精度逐步推进，从o.5微米到o.8微米，误差始终控制在o.o5微米以内。”

周明远凑到监控屏前，手指在屏幕上滑动，放大查看高频信号模块的蚀刻截面：“星途eda导出的蚀刻参数太精准了！你看这里的侧壁角度，9o度垂直偏差不过3度，比国外工具设计的还规整，这能最大限度减少信号反射损耗。”

流片程序一步接一步进行，临近中午，批5片晶圆才走完全部流片工序。

王世杰拿着最后一片晶圆的检测报告，快步走到楚千澜面前：“楚总！所有晶圆均通过初步电学测试，良率稳定在94.2%！三天后做完全套性能测试，就能知道芯片的实际运行效果。”