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第647章 光刻厂（第1页）

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系统推荐了数个解决芯片产能的方案，其中排名第一的方案，让处变不惊的周阳都惊到了。

因为这个方案叫做高能同步辐射光刻项目。

具体原理是无法制造像国外一样高精度的光刻机，那就把光刻机的体积放大，利用光离子加设备，建造数个足球场大小的加环，将普通的极紫外光加到可以雕刻芯片的程度，这时候在光的通路上加装分光镜，将极紫外光给分割成精度不同的光束。

这些光束是随机精度，有的光束是7纳米，有分出的光束1oo纳米，更有可能会有5纳米、3纳米精度的光束。

那么这些光束，就能用来雕刻芯片了。

当然，这里要先刨除那些精度太低的光束，这就产生了浪费，所以这个方法除了能耗有点大、占地大，还真就是实现弯道车的好办法。

我国确实造不出高精尖的小型化光刻机，但是可以造出光刻厂，利用这个方法，只要加大厂房建设，那么想要多少产能，就可以要多少产能，区别就是加大工厂，多增加分光镜就好了。

这就相当于，外国光刻机，可以实现一支枪，1oo米外能打中1o环，而我国的光刻机达不到，那我就增加枪弹的威力，虽然打不准，但是爆炸范围1o米，一样能击中目标。

颇有大力出奇迹的意味。

当然，实际这个仪器构造非常复杂，以周阳的知识，只能看到一小部分，但是原理就是这个原理，只要应用了高能同步辐射光刻项目，那么他们就能从产量，到精度，全面提升碳基芯片的性能。

他们测试的芯片，是用14纳米精度制作的，如果用7纳米，甚至更先进的3纳米、5纳米精度来制作，那么其性能提升不可想象。

所以，也多亏国外的制裁，才能让周阳从系统里，翻找到这个大力出奇迹的生产芯片方法。

周阳接下来就在会议上说，他有朋友联系他，说是有个解决方案，这次先散会，他去问问再说。

等散会后，周阳就从系统中，花费了1ooo积分，把这个高能同步辐射光刻项目全套图纸给兑换出来。

他详细看后，感觉这真是个天才的想法，反正他自己是想不出来，也只有系统这个鬼才不知道从那里搞来的这套方法。

这样只要计算好产量，工厂规模就可以建设起来了，而那一片土地面积足够，正好现在才在打地基，完全来得及。

所以周阳就把相关专家召集起来，给他们看这个项目图纸。

“这方法太棒了！”